10-200 t/h Anlage zur Mineralverarbeitung für die Quarz-Silica-Sandproduktion

Quarzsilika-Sand ist ein hartes, verschleißbeständiges und chemisch stabiles Silikatmineral. Sein Hauptmineralbestandteil ist SiO2.mit einer Härte von 7, die zerbrechlich ist und keinen Spalt hat, geformte Fraktur, Fettglanz, Dichte 2.65, Maschendichte (1-20 Maschen sind 1.6-1.8), 20-200 Maschen sind 1.5, seine chemischen, thermischen und mechanischen Eigenschaften haben eine offensichtliche Anisotropie, unlöslich in Säure, leicht löslich in KOH Lösung, Schmelzpunkt 1750 °C.

Aufgrund der einzigartigen physikalischen und chemischen Eigenschaften von Quarzsilikonsand ist es hochtemperaturbeständig, hat einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, eine hohe Dämmung, Korrosionsbeständigkeit,piezoelektrische WirkungEs wird hauptsächlich in Glas, Keramik und feuerfesten Materialien, Metallurgie, Bauwesen, Chemie, mechanischem Gießen, elektronischer Luftfahrt,Kautschuk und Kunststoffe, Beschichtungen, Wasseraufbereitung usw.

Gewöhnliche Volt-Glasmethode

Flachglas hat eine gute Perspektive und eine gute Lichtdurchlässigkeit (3 mm und 5 mm dickes farbloses transparentes Flachglas hat ein sichtbares Licht GB11614-2009,Die Qualität des Flachglases wird in drei Grade unterteilt.: ausgezeichnetes Produkt, erstklassiges Produkt und qualifiziertes Produkt.
Für Quarzsand gelten folgende Anforderungen für gewöhnliches Flachglas: SiO2 (Siliziumdioxid) = 90-98,5%; Fe2O3 (Eisentrioxid) = 0,05-0,30 %; A12O3 (Alumina) = 5,5-1,0%; Partikelgröße: 0,710 mm-0.106 mm (26-140 Maschen).

Photovoltaikglas Sand

Photovoltaikglas ist auch ultraweißes Glas, auch als Glas mit niedrigem Eisengehalt, farbloses Glas, Glas mit hoher Transparenz, mit hoher Lichtdurchlässigkeit und hoher Transparenz bekannt.Die Lichtdurchlässigkeit des Glases bestimmt die Qualität des GlasesDie Lichtfrequenz beträgt 6%, und die Lichtdurchlässigkeit von Photovoltaikglas kann mehr als 92% erreichen.
Die Anforderungen an Quarzsand für Photovoltaikglas sind im Allgemeinen folgende: S1O2 (Siliciumdioxid) = 99,5%; Fe2O3 (Eisenoxid) = 0,0080%; Partikelgröße: 0,710 mm-0,106 mm (ca. 26-140 Maschen);

Elektronisches Glas

Im Allgemeinen bezieht sich auf ultradünnes Floatglas mit einer Dicke von 0,1 ~ 2 mm, das hauptsächlich für die Herstellung von integrierten Schaltungen und Glasmaterialien mit photoelektrischen, thermoelektrischen,Akustisch-optisch, magnetoptische und andere funktionelle Komponenten; Substratglas wird derzeit in der Mikroelektronik verwendet,Eines der am weitesten verbreiteten und am schnellsten wachsenden Spezialglas in der High-Tech-Branche wie Optoelektronik und der neuen EnergieDazu gehören hauptsächlich Substrate für Flüssigkristall- und Solarzellen.
Die Anforderungen an das elektronische Glas für Quarzsand sind: S1O2 (Siliciumdioxid) 99,6-99,8%; Fe2O3 (Eisenoxid) 0,0020-0,0050%; Partikelgröße: 0,60 mm-0,065 mm ((30-220 Maschen),Die Anzahl der erforderlichen Segmente ist je nach Sorte unterschiedlich..